合盾環保設備（上海）有限公司I 廢水蒸發設備制造商
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光學半導體—部件清洗廢水處理
項目背景
客戶專注于各種高性能光學薄膜與金屬化薄膜制備技術研發與制造，致力于滿足科學研究、高端智能裝備、先進工業加工、消費電子等領域的客戶需求，是領先的光學與半導體基礎元器件供應商。加工工藝中產生清洗廢水需進行達標處理。
企業面臨的挑戰
此類廢液中含有大量有機物、氟離子、碳化硅 、可生性較差?，并且COD含量較高，原處理方式為委外處理，費用較高。目前根據政策要求及企業投資回報要求，企業需將廢液達標處理方案優化。
待處理水量及委外成本
廢水：硅片清洗廢水
廢水水量約：25L/H
委外處理成本：約6000元/噸。
年處理費用約：90萬
優勢：
● 占地面積小，易清潔維護
● 自動化程度高，減少人工操作
● 蒸餾水出水質量穩定，節省水資源
● 廢水處理的工序安全和運行安全
● 減少能源和運營成本
● 廢棄處理量減少至最小倍數
1.收集廢液進入至廢水存儲桶內，中和廢液，調節PH值
2.經過過濾系統，去除固體顆粒物及雜質
3.過濾后廢液進入EVLO-25 進行蒸發濃縮處理
4.蒸餾水排至廠區廢水站。
5.蒸發后少量濃縮液收集后，減少危廢體積，委外處理。
廢水水質處理前后數據
廢水蒸發濃縮 & 濃縮液減量
解決方案：
| 水質指標 | 處理前廢水指標 | 處理后廢水指標 |
| PH | 4.5 | 8.1 |
| CND | 4230ms/cm | 5040us/cm |
| TDS | 2115g/L | 2520mg/L |
| COD | 3000mg/L | 502mg/L |
| 總磷，總氮 | 總磷＜8 ,總氮＜70 |
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項目實施效果：
項目安裝運行 & 經濟效益分析
1.蒸發設備處理濃廢水量約500L/天（一天20小時運行狀態）。
2.設備調試后穩定運行1年，
3.廢水蒸發濃縮比約提高為95%
4.設備僅1名操作點檢維護人員
5.年節約廢水委外費用約78萬
6.蒸餾水出水穩定合格，排入廢水站
7.污水在減排零排方面做到了達標
合盾快速靈活適應市場變化，不斷推出創新型解決方案
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